अर्धचालकको लागि माइक्रोपोर लेजर पर्फोरेसन मेसिन
न्यूनतम प्रशोधन माइक्रोपोर व्यास 5μm छ, समग्र प्रशोधन शुद्धता ±4μm छ, स्थानीय सुविधा शुद्धता 3μm भन्दा कम छ, र प्रशोधन चौडाइ 300*300mm छ।।
मुख्य रूपमा प्रयोग गरिन्छ: माइक्रोइलेक्ट्रोनिक उपकरण निर्माण, मुद्रण टेम्प्लेट तयारी, बायोचिप तयारी, सटीक मोल्ड गठन, उपकरण सटीक भाग निर्माण
1. उच्च-शक्ति र उच्च-स्थिरता UV लेजर प्रयोग गरी ग्यासिफिकेशन सामग्रीलाई सीधै घटाउनको लागि, μm-स्तर प्रशोधन एपर्चर र μm-स्तरको ताप-प्रभावित क्षेत्रको साथ;
2. उच्च गतिको सानो ढाँचा सटीक माइक्रो-होल प्रशोधन प्राप्त गर्न आयातित सटीक ग्याल्भानोमिटरहरू मार्फत बीम विक्षेपनको उच्च-गति र उच्च-परिशुद्धता नियन्त्रण;
3. उच्च-गति र उच्च-परिशुद्धता ठूलो-ढाँचा माइक्रो-प्वाल प्रशोधन माइक्रोन-स्तर उच्च-गति रैखिक मोटर प्लेटफर्मको अनुवाद द्वारा महसुस गरिएको छ;
4. Z-अक्ष बिभिन्न मोटाईका सामग्रीहरूमा अनुकूलन गर्न र विशिष्ट टेपर होल प्रशोधन आवश्यकताहरू पूरा गर्न विद्युतीय रूपमा समायोज्य छ;
5. दायरा अक्ष सुपर-रिजोल्युसन औद्योगिक क्यामेरा ग्याल्भानोमिटरको पूर्ण-फ्रेम त्रुटि सुधार, अल्ट्रा-उच्च-परिशुद्धता फोकस, र प्रणालीको दीर्घकालीन स्थिरता र शुद्धता सुनिश्चित गर्न अनलाइन मापनको लागि प्रयोग गरिन्छ;
6. प्रणालीले प्रणालीको समग्र स्थिरता सुधार गर्न संगमरमर काउन्टरटपहरू अपनाउँछ, र सबै मेकानिकल घटकहरू सावधानीपूर्वक दीर्घकालीन शुद्धता सुनिश्चित गर्न चयन गरिन्छ;
7. न्यूनतम प्रशोधन माइक्रोपोर व्यास 5μm छ, समग्र प्रशोधन शुद्धता ±4μm छ, स्थानीय सुविधा शुद्धता 3μm भन्दा कम छ, र प्रशोधन चौडाइ 300 * 300mm छ;
8. यो धातु, सिरेमिक, सिलिकन वेफर्स, गिलास, अर्गानिक्स र माइक्रो-होल प्रशोधन र सटीक काट्ने जस्ता अन्य सामग्रीहरूको सटीक माइक्रोमेसिनिङको लागि प्रयोग गरिन्छ।
EDM माइक्रो-प्वाल प्रशोधन, मेकानिकल ड्रिलिंग, रासायनिक जंग, मेकानिकल पंचिंग, इत्यादिको तुलनामा, लेजर परिशुद्धता माइक्रो-होल मेसिनिंगका निम्न फाइदाहरू छन्:
उच्च गति (प्रति सेकेन्ड 4000 प्वाल सम्म)
उच्च परिशुद्धता (<3μm)
कुनै भौतिक प्रतिबन्धहरू छैनन् (धातु, सिरेमिक, सिलिकन वेफर्स, अर्गानिक्स, आदि)
प्रोग्रामेबल प्वाल ढाँचा (न्यूनतम 5μm, विशिष्ट टेपर होल)
वितरण अनुकूलित गर्न सकिन्छ (प्रशोधन चौडाइ 300mm * 300mm), कुनै मोल्ड र मास्क आवश्यक छैन
कुनै प्रदूषण र कुनै उपभोग्य वस्तुहरू छैनन्
प्रत्यक्ष प्रशोधन
| वस्तुहरू | प्यारामिटर | FM-UVM3A | FM-UVM3B |
| लेजर | लहर | ३५५ एनएम | |
| शक्ति | ＞3W@40kHz （3-40W वैकल्पिक） | ||
| मोड्युलेटिंग आवृत्ति | 1~200kHz | ||
| पल्स चौडाइ | 15ns@40kHz | ||
| बीम गुणस्तर | १.२ | ||
| गाल्भो | स्क्यान क्षेत्र | ~50*50mm | # 15 * 15 मिमी |
| पुनरावृत्ति सटीकता | ＜1um | ||
| स्थिति सटीकता | ≤±3um | ||
| XY तालिकाहरू | यात्रा | 300*300mm (600*600mm वैकल्पिक) | |
| स्थिति निर्धारण संकल्प | 0.1um | ||
| पुनरावृत्ति सटीकता | ≤±1um | ||
| स्थिति सटीकता | ≤±3um | ||
| प्रवेग | ≤1G | ||
| गति | ≤200mm/s | ||
| Z अक्ष | यात्रा | 150mm | |
| पुनरावृत्ति सटीकता | ≤±3um | ||
| स्थिति सटीकता | ≤±5um | ||
| CCD निगरानी स्थिति | क्यामेरा | पाँच मेगापिक्सेल | |
| अप्टिकल म्याग्निफिकेसन | 10X | ||
| क्षेत्र विभाजन | शुद्धता | ±3μm | |
| प्रशोधन गर्दै | न्यूनतम स्थान | 8um | ५ बजे |
| प्वाल प्रशोधन शुद्धता | ±5um | ||
| पुनरावृत्ति सटीकता | ≤±1um | ||
| प्रशोधनका लागि उपलब्ध सामग्री | गिलास, अर्गानिक्स, धातु, सिरेमिक, आदि। | ||
| GGGGA आवेदन | पाइप बोतल | ok | राम्रो |
| मर्ने बोतल | ok | राम्रो | |
| प्लास्टिकको बोतल | राम्रो छैन | ok | |
| नरम झोलाहरू | उपलब्ध छैन | ok | |
| शीतलक प्रणाली | पानी शीतलक (1500W शीतलन क्षमता) | ||
| विद्युत आपूर्ति | 220V, 50~60HZ, 1 चरण वा अनुकूलित | ||
| शक्ति | ≤2000W | ||
| नाप (मिमी) | 1200*1200*1900mm | ||
| वजन (केजी) | 1200Kg | ||
नोट: स्थिर तापमान (25 ± 0.5 ℃), 30 मिनेटको लागि पूर्व तताउने पछि प्राप्त
