Micropore Laser Perforatioun Machine fir semiconductor
De Minimum Veraarbechtung micropore Duerchmiesser ass 5μm, d'allgemeng Veraarbechtung Genauegkeet ass ± 4μm, déi lokal Fonktioun Genauegkeet ass manner wéi 3μm, an der Veraarbechtung Breet ass 300 * 300mm..
Haaptsächlech benotzt fir: Mikroelektronesch Geräter Fabrikatioun, Dréckschabloun Virbereedung, Biochip Virbereedung, Präzisioun Schimmelformung, Instrumentatioun Präzisiounsdeeler Fabrikatioun
1. Mat héijer Kraaft an héich Stabilitéit UV-Laser fir d'Vergasungsmaterial direkt ofzebauen, mat enger μm-Niveau Veraarbechtungsapertur an enger μm-Niveau Hëtzt-betraff Zone;
2. High-Speed- a High-Präzisiounssteuerung vun der Strahlablenkung duerch importéiert Präzisiounsgalvanometer fir High-Speed-Klengformat Präzisioun Mikro-Lachveraarbechtung z'erreechen;
3. Héich-Vitesse an héich-Präzisioun grouss-Format Mikro-Lach Veraarbechtung gëtt duerch d'Iwwersetzung vun der Mikron-Niveau Héich-Vitesse linear Motor Plattform realiséiert;
4. D'Z-Achs ass elektresch justierbar fir un Materialien vu verschiddenen Dicken unzepassen an fir spezifesch Kegellochveraarbechtungsfuerderunge gerecht ze ginn;
5. D'Bandachs Super-Resolutioun Industriekamera gëtt fir Vollframe-Fehlerkorrektur vum Galvanometer, Ultra-High-Präzisioun Fokus, an Online Messung benotzt fir d'laangfristeg Stabilitéit an Genauegkeet vum System ze garantéieren;
6. De System adoptéiert Marmor countertops fir d'allgemeng Stabilitéit vum System ze verbesseren, an all mechanesch Komponente ginn suergfälteg ausgewielt fir laangfristeg Genauegkeet ze garantéieren;
7. De Minimum Veraarbechtung Mikropore Duerchmiesser ass 5μm, d'Gesamtveraarbechtungsgenauegkeet ass ± 4μm, d'lokal Feature Genauegkeet ass manner wéi 3μm, an d'Veraarbechtungsbreet ass 300 * 300mm;
8. Et gëtt fir Präzisioun Mikromachining vu Metaller, Keramik, Siliziumwafer, Glas, Organik an aner Materialien benotzt, wéi Mikro-Lochveraarbechtung a Präzisiounsschneid.
Am Verglach mat EDM Mikro-Lach Veraarbechtung, mechanesch Bueraarbechten, chemesch corrosion, mechanesch punching, etc., Laser Präzisioun Mikro-Lach machining huet déi folgend Virdeeler:
Héich Geschwindegkeet (bis zu 4000 Lächer pro Sekonn)
Héich Präzisioun (<3μm)
Keng Materialbeschränkungen (Metaller, Keramik, Siliziumwaferen, Organesch, asw.)
Programméierbar Lachmuster (minimum 5μm, spezifescht Kegelloch)
Verdeelung kann personaliséiert ginn (Veraarbechtung Breet 300mm * 300mm), keng Ofdréck a Mask néideg
Keng Verschmotzung a keng Verbrauchsmaterial
direkt Veraarbechtung
Artikelen | Parameter | Spezifikatioune vun FM-UVM3A | FM-UVM3B |
Laser | wellen | 355 nm | |
Muecht | >3W @ 40kHz (3-40W optional) | ||
moduléierend Frequenz | 1 ~ 200 kHz | ||
Puls Breet | 15 ns @ 40 kHz | ||
Beam Qualitéit | <1.2 | ||
Galvo | Scan Beräich | <50*50 mm | <15*15mm |
Widderhuelbarkeet Genauegkeet | <1 um | ||
Positionéierungsgenauegkeet | ≤±3um | ||
XY Dëscher | Reesen | 300 * 300 mm (600 * 600 mm fakultativ) | |
Positionéierungsresolutioun | 0,1 um | ||
Widderhuelbarkeet Genauegkeet | ≤±1um | ||
Positionéierungsgenauegkeet | ≤±3um | ||
Beschleunegung | ≤1G | ||
Speed | ≤200 mm/s | ||
Z Achs | Reesen | 150 mm | |
Widderhuelbarkeet Genauegkeet | ≤±3um | ||
Positionéierungsgenauegkeet | ≤±5um | ||
CCD Iwwerwaachung Positionéierung | Kamera | fënnef Megapixel | |
Optesch Vergréisserung | 10 x | ||
Regioun Splicing | Genauegkeet | ± 3 μm | |
Veraarbechtung | Minimum Plaz | 8 umm | 5 umm |
Lach Veraarbechtung Richtegkeet | ± 5 um | ||
Widderhuelbarkeet Genauegkeet | ≤±1um | ||
Verfügbar Material fir Veraarbechtung | Glas, organesch, Metaller, Keramik, asw. | ||
GGG Applikatioun | Päif Fläsch | ok | gutt |
stierwen Fläsch | ok | gutt | |
Plastiksfläsch | net gutt | ok | |
Soft Poschen | Keng verfügbar | ok | |
Coolant System | Waasserkühler (1500W Kühlkapazitéit) | ||
Stroumversuergung | 220V, 50~60HZ, 1 Phase oder personaliséiert | ||
Muecht | ≤2000W | ||
Mooss (mm) | 1200 * 1200 * 1900 mm | ||
Gewiicht (KG) | 1200 kg |
Bemierkung: Konstant Temperatur (25 ± 0,5 ℃), kritt no der Virhëtzung fir 30 Minutten